簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "丘群".ccommittee (精準) and cadvisor.raw="陳炤彰"


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    1,2,4-Triazole抑制劑之拋光液於銅膜晶圓化學機械拋光後清洗製程影響研究
    • 機械工程系 /103/ 碩士
    • 研究生： 戴佩瑜   指導教授： 陳炤彰
    • 晶圓經過化學機械拋光(CMP)製程後，晶圓表面通常殘留大量拋光液中之磨料、金屬離子及其他污染物，若無有效去除CMP製程後之殘留污染物以及拋光所產生之表面損傷，則將影響後續薄膜沈積、微影等製程之良率，…
    • 點閱：276  下載：13 

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    開發線上監控量測方法與系統應用於拋光墊性能水準分析之研究
    • 機械工程系 /104/ 碩士
    • 研究生： 蔡明城   指導教授： 陳炤彰
    • CMP(Chemical-Mechanical Planarization)為化學機械平坦化製程被應用於IC製造。在半導體線寬縮減的迫切需求下，穩定性和可用性於CMP製程已成為非常重要的課題。然而目…
    • 點閱：326  下載：8 

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    電致動力輔助化學機械平坦化製程應用於功能性晶圓平坦化之研究
    • 機械工程系 /102/ 碩士
    • 研究生： 楊立晨   指導教授： 陳炤彰
    • 三維堆疊積體電路(3DS-IC)被認為是一項突破摩爾定律關鍵技術，由矽導孔晶圓(TSV)及玻璃導孔晶圓(TGV)作為中介層(Interposer)材料進行三維異質元件堆疊，TGV所需使用的無鹼玻璃基…
    • 點閱：317  下載：13 
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